Top Banner
Test des MEMS Frédérick Mailly LIRMM Département Microélectronique CNRS / Université Montpellier 2 email : [email protected]
33

Frédérick Mailly des MEMS J… · C. Jeffrey, N. Dumas, Z. Xu, F. Mailly, F. Azaïs, P. Nouet et al. Sensors and actuators (2007) Augmenter l’observabilité • Vérification

Oct 20, 2020

Download

Documents

dariahiddleston
Welcome message from author
This document is posted to help you gain knowledge. Please leave a comment to let me know what you think about it! Share it to your friends and learn new things together.
Transcript
  • Test des MEMS

    Frédérick Mailly

    LIRMM

    Département Microélectronique

    CNRS / Université Montpellier 2

    email : [email protected]

  • Test des MEMS

    • Contexte• Stratégies pour le test des MEMS• Exemple d’une microboussole

  • Marché des MEMS• Nombreuses filières technologiques : Si, CMOS, SOI,

    Quartz, Polymère, …• Systèmes hétérogènes de complexité variée:

    – parties micro-mécaniques– électroniques analogiques, digitales, mixtes

  • Place du test en microélectroniqueLe coût et la difficulté du test augmentent avec l’intégration

    Foundry

    SpecificationsLayoutDesigner?

    Masks

    Dies

    TEST$

    $$

    $$$

    Wafer

    Foundry

    SpecificationsLayoutDesigner?

    Masks

    Dies

    TEST$

    $$

    $$$

    Wafer

    Foundry

    SpecificationsLayoutDesigner??

    Masks

    Dies

    TEST$

    $$

    $$$

    Wafer

    Le test au niveau wafer est souvent primordial !!!

  • MEMS : SoC, SiP

    Sans test

    +

    $$$$

    Avec test

    +

    $

    +

    + +

    $

    Sans test

    +

    $$$$

    Avec test

    +

    $

    +

    + +

    $

    = + + +( )SoCSiP …Sans test au niveau wafer

    +

    $$$

    Avec Test

    +

    $SoC

    SiP

  • Test fonctionnel au niveau wafer• Vérification des spécifications

    – Fonctionnalité du MEMS– Vérification des performances : sensibilité, bande passante,

    résolution…• Utilisation de stimuli physiques !

    Vibration, Temperature

    ~~ VV

    Pression,Force

  • Le coût du testCoût du système de test : 0.5M€ / an365J * 24h = 500k minTemps de test : 1 min / MEMS

    1€ / MEMS

    Coût total du système

    Volume

    capteur + électronique discrète

    % du coût du test sur le coût total

    µcapteur + standard IC

    µcapteur + ASIC

    µcapteur intégré

  • Stratégies pour le test des MEMS

  • Comment réduire le coût du test ?• en diminuant le coût du test par minute

    – en évitant les stimuli physiques externes donc en augmentant la contrôlabilitéélectrique

    – en augmentant l’observabilité électrique

    • en diminuant le temps du test– en ne vérifiant pas toutes les spécifications– en définissant des méthodes de test

    alternatives (test structurel ou orientédéfaut)

    • mais en garantissant la qualité du test– en montrant la corrélation entre réponse au

    test alternatif et performances fonctionnelles

    Modélisation&

    DfT

  • Modélisation du système• Simulation par éléments finis (bas niveau)

    – Avantages :• modèles multiphysiques précis et complets• injection de fautes globales ou locales

    – Inconvénients :• complexité du modèle• temps de simulation• optimisation

    • Modèles nodaux– Avantages :

    • modèles analytiques – temps de calcul– SPICE, SIMULINK…

    • injection de fautes globales ou locales• technique en plein essor

    – Inconvénients ?R. Rosing, R. Reichenbach, A. Richardson – Microelectronics Journal 2002

  • Modélisation du système• Modèle comportemental (haut niveau)

    – avantage• modèle simple et analytique

    – temps de calcul– SPICE, SIMULINK…

    • bien adapté à l’optimisation système• injection de fautes globales ou comportementales

    – inconvénient• détermination des paramètres haut niveau• pas d’injection de fautes locales

    KpDpM1

    2 +⋅+⋅MM

    zAccel. VoutFa∆C

    R. Rosing, R. Reichenbach, A. Richardson – Microelectronics Journal 2002

  • Supprimer les stimuli physiques• Utilisation d’un phénomène parasite (microboussole)

    • Modification du design

    ADXL

    KpDpM1

    2 +⋅+⋅MMAccel. Fa

    zVout++

    F∆C

    VtestElectrostat.

  • Supprimer les stimuli physiques• Stimuli électrothermiques

    • autres stimuli : électromagnétique, piézoélectrique, …

    B. Charlot, S. Mir, F. Parrain, B. Courtois,JETTA, Vol.17, No. 6, 2001

    A. Cozma Lapadatu, D. De Bruyker, H. Jakobsen, R. Puers, Sensors and Actuators 82 (2000) 69–73

  • Augmenter la contrôlabilité électrique

    • Reconfiguration en mode test : test par oscillations

    • Bias superposition

    dtd

    Mode forcéMode forcé

    Mode oscillateur

    k, M, D, Q…

    f0, Vpp

    A

    dtddtd

    Mode forcéMode forcé

    Mode oscillateur

    k, M, D, Q…

    f0, Vpp

    A

    SensorBiasing

    Test stimulus

    Test signal analyser and

    generator

    Functional output

    Test output

    Analogue interface

    Calibration error signal

    Measured value

    Functional signal

    extractor

    Test signal

    extractor

    ADCSensorBiasing

    Test stimulus

    Test signal analyser and

    generator

    Functional output

    Test output

    Analogue interface

    Calibration error signal

    Measured value

    Functional signal

    extractor

    Test signal

    extractor

    ADC VDA

    GND

    VDB

    VA VB

    R+dR

    R+dR

    R-dR

    R-dR VDA

    DB

    Time

    Vmag

    VDA

    GND

    VDB

    VA

    R+dR

    R+dR

    R-dR

    R-dR DA

    DB

    Time

    VDA

    GND

    VDB

    VA

    R+dR

    R+dR

    R-dR

    R-dR DA

    VDB

    Time

    V. Berroule, Y. Bertrand, L. Latorre, P. Nouet, DATE’02

    C. Jeffrey, N. Dumas, Z. Xu, F. Mailly, F. Azaïs, P. Nouet et al.Sensors and actuators (2007)

  • Augmenter l’observabilité• Vérification des paramètres environnementaux

    – MIDISPPI : projet ANR (NXP, IEF, IXL, LIRMM)– packaging intelligent pour MEMS dans les SiP

    • MEMS testé avant packaging• vérification du packaging par des capteurs (T, p, Hr)• test go/no go• recalibration

    T P Hr

  • Augmenter l’observabilité• Mesure impulsionnelle on-chip

    )(*)()(*)(*)()(*)()( kkhkxkxkhkxkyk xxxy Φ=−=−=Φ

    x(j-k)

    y(j) 1/(L+1)hk

    -1 0MUX

    1

    z-1

    Σ

    j = 0:L-1x(j-k)

    y(j) 1/(L+1)hk

    -1 0MUX

    1

    z-1

    Σ

    j = 0:L-1

    z-1 z-1z-1z-1 z-1z-1

    m 1nn+1m-1

    MEMS CAN

    CNA

    C0

    h0

    C1

    h1

    Cm-1

    hm-1

    1 0

    1 -1

    LFSR

    z-1 z-1z-1z-1 z-1z-1

    m 1nn+1m-1

    MEMS CAN

    CNA

    C0

    h0

    C1

    h1

    Cm-1

    hm-1

    1 0

    1 -1

    z-1z-1 z-1z-1z-1z-1z-1z-1 z-1z-1z-1z-1

    m 1nn+1m-1

    MEMS CAN

    CNA

    C0

    h0

    C1

    h1

    Cm-1

    hm-1

    1 0

    1 -1

    LFSR

    -1/L

    LTclock

    1

    Tclock

    -1/L

    LTclock

    1

    Tclock

    )()( kkxx δ≈Φ

    ∑−

    =

    −+

    =Φ1

    0

    )()(1

    1)(L

    jxy jykjxL

    k

    A. Dhayni, Thèse (INPG, TIMA), 2006

  • Exemple : test d’une microboussoleélectronique

  • Modélisation du système

    3dB

    Frequency

    22 kHz

    ∆R/

    R

    ∆f ≈ 400Hz

    Q = 60

    K

    M

    D

    If

    B

    F

    ∆R

    Vf

    Wc

    +∆R

    ∆V

    =

    Modèleniveau 0

  • Modélisation du systèmeModèle niveau 1

    KgKgKpDpM +⋅+⋅ 21

    fRN

    WcWc 2Vdd××

    B FLz

    VoutIfVf

    ++

    R∆Roff

    ∆R

    p

    param.

    Dispersion process CMOS

    Stressrésiduel

    0

    50

    100

    150

    200

    250

    -6 -5 -4 -3 -2 -1 0 1 2 3 4 5

    ∆F/F0 (%)

    # S

    ampl

    es

  • Modélisation du systèmeEffets thermiques

    -40

    -30

    -20

    -10

    0

    10

    20

    30

    40

    50

    1 10 100 1k 10k 100k

    Frequency (Hz)

    Volta

    ge (d

    B)

    magnetic actuation

    thermal actuation

    -40

    -30

    -20

    -10

    0

    10

    20

    30

    40

    50

    -40

    -30

    -20

    -10

    0

    10

    20

    30

    40

    50

    1 10 100 1k 10k 100k1 10 100 1k 10k 100k

    Frequency (Hz)

    Volta

    ge (d

    B)

    magnetic actuation

    thermal actuation

    magnetic actuation

    thermal actuation

    Frequence Vf (Hz)

    Tens

    ion

    (V)

    Actuation magnétique

    Actuation thermique

    GVf

    VoutVf

    Image IR

  • Modélisation du système

    KgKgKpDpM1

    2 +⋅+⋅

    fRN

    WcWc 2Vdd××

    B FLz

    VoutIf

    Vf

    ++ ++

    Effetsthermiques

    fR1

    pCR1R

    thth

    th⋅⋅+ thK

    Pf Tg

    dK

    Fth

    ^2^2

    pKcc ⋅

    Couplagecapacifif

    ++

    DTk4 b ××× RTk4 b ×××Bruit Offset

    statique R∆Roff

    ∆R

    Niveau 2

    ++

  • Utilisation du modèle pour la conception

    • Suppression des effets thermiques parasites

    • Suppression de l’offset (stress résiduel, dispersion process, effet thermique DC) par filtrage passe haut

    Vf2

    Vf1

    I

    Vf1

    Vf2

    I

    Exc_in

  • ADC

    Ampl. Det. Conversion

    I

    I

    B

    F

    f0

    f0=f(sw_clk)/n

    f(sw_clk)=n*fres

    sw_c

    lk

    Fd_out[n-6]

    Driving Block

    Quartz

    Nb_in Prog. digital frequency divider

    Prog. digital frequency divider

    BufferBufferFd_out[n]

    G

    Amplification

    B

    Utilisation du modèle pour la conception

    Out

    Fd_out[n]

    conception robuste

  • Test électrothermique

    Sans faute Avec faute

    Time (ms)

    V Whe

    at

    0 10 20 30 40 50

    Vbias

    B

    Vbias

    Détection de faute de gravure

    VWheat

  • Test électrothermique

    Frequency (Hz)

    Vpp

    Whe

    at

    1 10 100 1k 10k 100k

    Vpp

    Whe

    at

    8k 10k 12k 14kFrequency (Hz)

    Détection de faute de gravure et recherche de la fréquence de résonance

    Vbias

    Vbias

    B VWheat

    Sans faute

    Avec faute

    0

    0.2

    0.4

    0.6

    0.8

    1

    1.2

    20.5 21 21.5 22 22.5 23

    Freq. (Khz)

    V pp

    (V)

    ∆F = 3.76%

    Fr1 = 21.42 kHzVr1 = 991.4 mVQ1 = 107.1

    Fr2 = 22.24 kHzVr2 = 947.4 mVQ2 = 101.1

    0

    0.2

    0.4

    0.6

    0.8

    1

    1.2

    20.5 21 21.5 22 22.5 23

    Freq. (Khz)

    V pp

    (V)

    ∆F = 3.76%

    Fr1 = 21.42 kHzVr1 = 991.4 mVQ1 = 107.1

    Fr2 = 22.24 kHzVr2 = 947.4 mVQ2 = 101.1

  • Test électrothermique intégré

    5V

    5V

    Harm_sel

    Vf1

    Vf2

    Exc. buffers

    Fd_out[n]

    Fd_out[n+1]

    Fd_out[n]

    Fd_out[n+1]

    Vf1

    Vf2

    Driving Block

    Prog. digital frequency divider

    Prog. digital frequency divider

    BufferBufferFd_out[n]

    Nb_in

  • Test par oscillations

    X A

    L.O.

    ~

    B

    If Vout

    Spécifications Min Typ Max

    Sensibilité (V/T)

    τ (ms) 1.20.9 1.5

    2.852.5 3.2

    Masses volumiques

    EpaisseursModules d’Young

    Dimensions Modèle de fautes :20 paramètresbas niveau, LPj

  • Test par oscillations

    X A

    B

    Vout

    fosc=fres

    Voscd/dt

    fosc= fres

    Vcc

    • Mesure de deux paramètres indirects (IPk) : fosc, Vosc• Question : tolérances sur ces paramètres ?

  • Tolérances sur les paramètres bas niveau

    STm2TR

    Sensitivity (V/T)

    2.2

    3.5

    600 1300

    Tm2 (nm)

    Spec.

    IDPiLPjLPj TRTR =

  • Tolérances sur les paramètres indirectsAmplitude de l’oscillation (Vpp)

    2.1

    2.6

    600 1300

    Fréquence de l’oscillation (kHz)

    10

    12.5

    600 1300Tm2 (nm)2

    TRTm

    2TRTmFosc

    2TRTm

    2TRTmAosc

  • Tolérances sur les paramètres indirects

    #

    IPk

    Approche couverture de fautes(FC)

    { }LPIPLPIP

    j

    kjkTRTR = ∩

    { }LPIPLPIP

    j

    kjkTRTR = ∪

    Approche rendement(Yield)

  • Résultats

    LP Tpox

    750

    33LP

    LPσ

    Tm2Tvox Tfox Tcox

    900

    33

    400

    17

    700

    35

    940

    47

    Tm1

    720

    40

    X A

    L.O.

    ~

    B

    If Vout

    3KHz BW

    X A

    L.O.

    ~

    B

    If Vout

    3KHz BWX A

    B

    Vout

    3KHz BW

    fosc=fres

    Voscd/dt

    fosc= fres

    Vcc

    X A

    B

    Vout

    3KHz BW

    fosc=fres

    Vosc

    fosc=fres

    Voscd/dt

    fosc= fres

    Vcc

    test type Yieldnb échantillons sains et gardés 90nb échantillons sains et rejetés 0nb échantillons fautifs et gardés 2nb échantillons fautifs et rejetés 8Efficacité du test 98%Couverture de fautes 80%

    test type FCnb échantillons sains et gardés 64nb échantillons sains et rejetés 26nb échantillons fautifs et gardés 0nb échantillons fautifs et rejetés 10Efficacité du test 74%Couverture de fautes 100%

    nb échantillons sain 90nb échantillons fautif 10nb total d'échantillons 100rendement de production avant test 90%

    ss

    nb échantillons sain 90nb échantillons fautif 10nb total d'échantillons 100rendement de production avant test 90%

    ss

  • Conclusion• Principales difficultés du test des MEMS:

    – choix du niveau de modélisation (FEM, Nodal, HDL) et du modèle de faute

    – remplacement des stimuli physiques– nombreuses méthodes (orientées défaut ou structurelles)– pas d’outils spécifiques et automatiques pour le test des MEMS

    (stimuli de test, FC, efficacité)

    • Importance de la relation conception et test– prise en compte du test lors de la conception– conception robuste

    • Fiabilité des MEMS