www.microresist.com Ormocore Ormocomp Ormocore K m p p 0 6 -1 100 - 130 ppm K -1 1.518 1.513 1.553 1.543 Ormocomp UV UV Ormostamp glass / quartz master stamp ready to use working stamp * • • * in collaboration with Laser Zentrum Hannover e. V. @ 355 nm, 10 ps, 100 MHz (Courtesy of Laser Zentrum Hannover e.V.) 2 3 Ormocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics Ormocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics Ormocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics R R 微小光学用途のOrmocer 硬化マテリアルの特性 熱安定性 重量減量< 5 %(270 ℃ (5 K min-1)まで) 硬化マテリアルの特性 デュロメリック 収縮(硬化中) 容量で5 - 7 % 容量で3 – 5 % CTE (20 - 100 ℃) 屈折率 @ 635 nm @ 800 nm ガラス基板 波長 光透過性Ormocomp 吸光度 6μm硬化Ormocompの ガラス基板 Ormocomp複製 10x10マイクロレンズアレイ ウェハー基盤での複製ゾル・ ゲル屈折マイクロレンズ (Avalon提供) 光格子 (FSU-Jena提供) インプリント、モールド、従来リソグラフィー 用UV硬化マテリアル トランスペアレントスタンプ製造 直接プロトタイプ化およびマイクロパターン化 テクノロジー:3Dの層別UV直接プロトタイプ化および2光子ポリメリゼーション 微小光学部品&マイクロシステム用ハイブリッド ポリマー 最低350nmまでの高いトランスペアレンシー UVパターン化可能(リソグラフィー/モール ド) 100nm以下のライン幅の高い解像度 露光:i-line、h-line、広帯域 高速硬化 吸水度< 0.5 % 表面粗度2 – 4 nm 6か月保存期間 270 ℃までの熱安定性 無溶液 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ UVパターン化可能 データコムおよびテレコム用波長での高度な トランスペアレンシー 270 ℃までの熱安定性 高速硬化 無溶剤 ・ ・ ・ ・ ・ 成形格子 マイクロレンズ マイクロレンズアレイ 光カプラーおよびコネクター プリズム ・ ・ ・ ・ ・ 主用途 光センサーおよびセンサーシス テム ディスプレイ 光測定システム 単一エレメントまたはウェハー スケール ・ ・ ・ ・ 主用途 プロセスフロー UVモールド トランスペアレントスタンプ プロセスフロー UVモールド 不透明スタンプ スタンプ スタンプ Ormocer :革新的テクノロジー シリカスタンプに代わる高いコスト効率 マスタースタンプの高度な忠実性 可視光に対して高度なトランスペアレンシー(最低350nmまで) 100nm未満のライン幅という高度な解像度 標準リソグラフィー装置による便利な処理 機械的安定性 優れた熱安定性 1ステップまたは2ステップでの生成が可能 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 接着促進剤 1.基盤準備 2.スタンプ生成 A.Ormostamp沈着 B.Ormostampプロセス 3.固着防止層 作業用スタンプの使用可能 マスタースタンプ ガラス/水晶 Ormostamp UV光 固着防止層 モールドでインプリントされた mr-UVCur06ナノ構造 Ormostampで作成したスタンプで複 製されたマイクロ構造 レーザ:355nm、20mW、100Mhz スキャナ:100nm焦点距離、スキャニングエ リア50x50mm 解像度:10 μm 垂直5 μm側面 圧電アクチュエータでのポジショニング ・ ・ ・ ・ HRミラー @ 355 nm ビーム拡大器 減衰器 直流スキャナ+焦点目標 AOモジュレータ 樹脂処理チャンバ+ローラコースター 圧電アクチュエータ 準cwUVレーザ源 原理設定 3D層別UV直接 プロトタイプ化 主要技術応用 微小機械、マイクロセンサー、マイクロフルイディクス 2光子ポリメリゼーショ ンで作成された光子クリ スタル 2光子ポリメリゼーショ ンで作成された光子クリ スタル 3D層別UV直接プロタイプ 化で作成された微小アイ テム(チェスタワー) 3D層別UV直接プロタイプ 化で作成された風車(歯 車接続のフルイディクメ