Dispositivos Para Ventilación

DISPOSITIVOS PARA VENTILACIÓN.Juan Manuel Salvador Flores.

SISTEMAS DE BAJO FLUJO.

Proporcionan un receptáculo de oxígeno para que el paciente lo inhale

La concentración final de oxígeno está determinada por: El tamaño del reservorio de oxígeno. El ritmo al que este se llena. Demandas ventilatorias del paciente.

FiO2 variable. Cánulas nasales, mascarillas faciales, mascarilla

con bolsa reservorio.

CÁNULAS NASALES.

Como regla cada litro de oxigeno aporta un

aumento de FiO2 del $%

FLUJO DE OXIGENO 1 lt/min

Fio2 aproximada.

1 0.21-0.24

2 0.24-0.28

3 0.28-0.34

4 0.34-0.38

5 0.38-0.42

6 0.42-0.46

MASCARILLA SIMPLE.

Máximo FiO2 de 0.60

5 lpm 40%

6 lpm 50%

7 lpm 60%

No tiene válvulas ni reservorio, solo orificios laterales para la entrada y salida del gas espirado al ambiente.

MASCARILLA DE RE INHALACIÓN PARCIA(MASCARILLA CON

RESERVORIO. Con re inhalación parcial

El gas exhalado en la fase inicial de la espiración vuelve a la bolsa reservorio.

FiO2 máxima 0.7 – 0.8 Sin re inhalación

Posee válvula unidireccional que impide que aire exhalado vuelva a la bolsa reservorio.

FiO2 : 1.0

Ventaja: Mayor capacidad para controlar composición de gas inhalado.

SISTEMAS DE ALTO FLUJO. Estos dispositivos aportan flujos suficientes

para satisfacer requerimientos inspiratorios del paciente (>40 l/min).

Todo el gas respirado por el paciente es aportado por el dispositivo.

La concentración de oxígeno es bastante precisa y regulable: 0.24 – 0.50.

La FiO2 es independiente del patrón ventilatorio del paciente: Flujo, volumen corriente, FR.

El débito de oxígeno se obtiene mediante una mezcla de aire y oxígeno mediante sistema Venturi.

MASCARILLA VENTURI.

El oxígeno y el aire se diluyen en un tubo mezclador: el oxigeno pasa a velocidad por un orificio restringido y el aire atmosférico ingresará por una rendijas laterales de tal manera que al variar el tamaño del orificio de la entrada de arrastre determinará la variación del FiO2