平成24年 7月24日(火) 九州大学 応用力学研究所 炉内構造材料の経年変化に関する研究集会 3次元アトムプローブ及び陽電子消滅による フィンランドLoviisa炉監視試験片のナノ組織解析 東北大学 金属材料研究所 蔵本明, 野沢康子, 外山健, 永井康介 , 長谷川雅幸 VTT(フィンランド) Matti Valo
平成24年 7月24日(火) 九州大学 応用力学研究所
炉内構造材料の経年変化に関する研究集会
3次元アトムプローブ及び陽電子消滅による フィンランドLoviisa炉監視試験片のナノ組織解析
東北大学 金属材料研究所
蔵本明, 野沢康子, 外山健, 永井康介, 長谷川雅幸
VTT(フィンランド)
Matti Valo
2
原子炉圧力容器
旧ソ連型(東欧型)の原子炉圧力容器鋼と日本の圧力容器鋼との違い
Cu Mn Si Ni P Cr Mo V Fe
旧ソ連
(1970~
1980) 0.14 1.14 0.4 0.11 0.035 1.63 0.48 0.20 Bal.
日本
(1965~
1980)
(A533B)
0.16 1.30 0.30 0.68 0.015 0.17 0.53 - Bal.
旧ソ連型原子炉
VVER-440の原子炉容器
溶質原子クラスター (Cu, Si, Mn, Ni, P)
P等の粒界偏析
照射欠陥 転位ループ 空孔型欠陥
化学組成の例
Loviisa原子力発電所
VVER-440
(フィンランド)
未照射 焼鈍 照射 再照射
脆化量
原子炉圧力容器の寿命の延長
照射量 (時間)
使用限界
原子炉圧力容器のin-service annealing(その場焼鈍)
焼鈍で照射欠陥や溶質原子クラスターはどうなったか?
再照射で何がおきるか? 3
Cu Mn Si Ni P Cr Mo V Fe
0.14 1.14 0.4 0.11 0.035 1.63 0.48 0.20 Bal.
監視試験片の化学組成(wt.%)
VVER-440 (旧ソ連型の加圧水型の原子炉)
state 照射 焼鈍(475℃) 再照射
×1019n/cm2 h ×1019n/cm2
未照射 - - -
照射 2.5* - -
照射+焼鈍 2.5* 100 -
照射+焼鈍+再照射 2.5* 100 0.9**
照射速度: 3.0x1011 n/cm2/s, E> 1MeV
照射温度: 270 ℃
試料: Loviisa-1炉監視試験片
監視試験片
4
VVER-440
原子炉容器
原子炉圧力容器
Phil. Mag. 87 1855 (2007) A. Ulbricht, F. Bergner, J. Böhmert, M. Valo, M.-H. Mathon and A. Heinemann
陽電子消滅
3次元アトムプローブ(3D-AP)
照射誘起ナノ組織変化の観察手法
位置敏感型検出器
レーザーパルス
Sample
原子レベルの分解能で3次元の原子マップを作成 3次元アトムマップ
検出器
検出器
陽電子:空孔型欠陥やCu析出物に敏感
欠陥のサイズ
消滅サイトの元素分析
10nm
高電圧 電界蒸発
5
厚さ5nm
20 nm
Cu
Ni
Si
Mn
P
3D-AP観察 照射したまま
数密度 3.8×1023 /m3
平均半径2.0nm
6
20nm
Cu
Ni
Si
Mn
P
3D-AP観察 照射後焼鈍
数密度 2.2×1022 /m3
厚さ5nm
平均半径2.6nm
7
Cu
Ni
Si
P
Mn
20nm
厚さ5nm
3D-AP観察 再照射
数密度 6.3×1022 /m3
平均半径2.1nm
8
0123
rG
0
20
40
ND
200
220
240
Hv
0
0.01
0.02
Vf
0123
rG
0
20
40
ND
200
220
240
Hv
0
0.01
0.02
Vf
溶質原子クラスターの半径のヒストグラム
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100 -1
.0
1.0
-1.2
1
.2-1
.4
1.4
-1.6
1
.6-1
.8
1.8
-2.0
2
.0-2
.2
2.2
-2.4
2
.4-2
.6
2.6
-2.8
2
.8-3
.0
3.0
-3.2
3
.2-3
.4
3.4
-3.6
3
.6-3
.8
3.8
-4.0
4
.0-
照射
半径 [nm]
溶質原子クラスター数
0
1
2
3
4
5
6
-1.0
1
.0-1
.2
1.2
-1.4
1
.4-1
.6
1.6
-1.8
1
.8-2
.0
2.0
-2.2
2
.2-2
.4
2.4
-2.6
2
.6-2
.8
2.8
-3.0
3
.0-3
.2
3.2
-3.4
3
.4-3
.6
3.6
-3.8
3
.8-4
.0
4.0
-
照射後焼鈍
半径[nm]
溶質原子クラスター数
0
5
10
15
20
25
-1.0
1
.0-1
.2
1.2
-1.4
1
.4-1
.6
1.6
-1.8
1
.8-2
.0
2.0
-2.2
2
.2-2
.4
2.4
-2.6
2
.6-2
.8
2.8
-3.0
3
.0-3
.2
3.2
-3.4
3
.4-3
.6
3.6
-3.8
3
.8-4
.0
4.0
-
半径[nm]
溶質原子クラスター数
平均2.0nm 平均2.6nm 平均2.1nm
再照射
9
照射 照射後
焼鈍 未照射 再照射
Nd
0123
rG
0
20
40
ND
200
220
240
Hv
0
0.01
0.02
Vf
Vf
ビッカース微小硬度(Hv)、溶質原子クラスターの数密度(Nd)、体積率(Vf)
Hv
照射 照射後
焼鈍 再照射 照射
照射後
焼鈍 再照射
[×1022/m3]
10
未照射 照射 照射後焼鈍
再照射
475℃における
Fe中のCu固溶限
マトリックス中のCu濃度
270℃における
Fe中のCu固溶限 0
0.1
0.2
Cu c
om
positio
n
in m
atr
ix [
wt.
%]
270
475
M. Perez, F. Perrard, V. Massardier, X. Kleber, A. Deschamps, H. De Monestrol, P. Pareige, G. Covarel, Phil. Mag. 85 2197 (2005).
100
120
140
160
180
0.56
0.564
0.568
0.006
0.007A
vera
ge
Positro
n lifetim
e [
ps]
未照射 照射 照射後焼鈍
再照射
V1
Fe Bulk
Positron lifetime
Fe Bulk
0
100
200
3000
20406080
100
未照射 照射 照射後焼鈍
再照射
V1
V5
V9
Positro
n lifetim
e [
ps]
Inte
nsity [%
]
τav
τ2
τ1
I2
Unirrad.
11
100
120
140
160
180
0.56
0.564
0.568
0.006
0.007
Avera
ge
Positro
n lifetim
e [p
s]
未照射 照射 照射後焼鈍
再照射
V1
Fe Bulk
Unirrad.
20nm
照射材
照射後焼鈍材 再照射材
Loviisa監視試験片(0.14Cu) 陽電子平均寿命の変化及び3D-APで観察したCuクラスターの変化
0 10 20 30 400.5
1
1.5
2未照射照射したまま照射後焼鈍再照射
Ratio t
o P
ure
Fe
PL[×10-3
mc]
CDB
Pure Cu
13
A. Kuramoto, T. Toyama, T. Takeuchi, Y. Nagai , M. Hasegawa, T. Yoshiie,
Y. Nishiyama et al. / Journal of Nuclear Materials 425 (2012) 65–70
Unirrad.
As-irrad.
350℃
450℃ 550℃
20nm
JMTR照射(3.9×1019n/cm2)、A533B(0.16Cu) 30分等時焼鈍 陽電子平均寿命の変化及び3D-APで観察したCuクラスターの変化
等時焼鈍では照射欠陥は 450℃でほぼ回復
まとめ
15
照射材 照射後焼鈍材 再照射材
微細なCu富裕析出物 粗大化 粗大化した析出物
+微細なCu富裕析出物
0123
rG
0
20
40
ND
200
220
240
Hv
0
0.01
0.02
Vf
照射 照射後
焼鈍 未照射 再照射
0123
rG
0
20
40
ND
200
220
240
Hv
0
0.01
0.02
Vf
Vf
Hv
再照射後の硬化は
Cu富裕析出物だけ
では説明できない
100
120
140
160
180
0.56
0.564
0.568
0.006
0.007
Positro
n lifetim
e [
ps]
未照射 照射 照射後焼鈍
再照射
V1
Fe Bulk
Unirrad.
16
東北大学 金属材料研究所 共同利用ワークショップのご案内
開催場所: 金属材料研究所 会議室
日時: 2012年11月8, 9日
特別講演(予定): 北澤宏一先生
「より安全・安心な原子力のために材料研究ができることは何か?」
詳細は、後日ご連絡差し上げます。
広く、原子力および関連の材料研究者が集うワークショップです。
奮ってご参加ください。
旅費は100万弱を確保してあります(講演者、座長のみ)。
17
Unirrad Grain boundary segregation
20nm
P C
oncentr
ation
[at.%
]
P C
oncentr
ation
[at.%
] P
Concentr
ation
[at.%
]
Distance [nm]
0
1
2
0 10 20 30 40 500
1
2
0
1
2
1
2
3
3
2
1
P
Grain boundary segregation I
20nm
0 10 20 30 40 500
1
2
P C
oncentr
ation
[at.%
]
Distance [nm]
P, C
Erosion法*を用いた溶質原子クラスターの濃度解析
焼鈍により、Cu濃度が増加し、Si, Mn,Ni,Pが減少したことが分かる。
70%
80%
90%
100%
I IA IAI
Cu
Mn
Ni
Si
P
others
Fe
照射 照射後焼鈍 再照射
0%
*J.M.hyde, C.A.English, Mat. Res. Soc. Symp 650 R6.6.1 (2001)
Envelop法*を用いた溶質原子クラスターの濃度解析
焼鈍により、Si, Mn,Ni,Pが減少したことが分かる。
0%
10%
20%
30%
40%
50%
60%
70%
80%
90%
100%
Cu
Mn
Ni
Si
P
others
Fe
照射 照射後焼鈍 再照射
*M.K. Miller, Atom Probe Tomography, Kluwer Academic/Plenum Publishing, New York, 2000.
0
50
100
⊿Hv剛性率比0.70.80.90.95
⊿Hv
照射 照射後焼鈍 再照射
*K.C.Russell, L.M. Brown, Acta. Metall. 20 969 (1972)
Russell &Brownモデル*を用いた硬化量(⊿Hv)の見積もり
70%
80%
90%
100%
I IA IAI
Cu
Mn
Ni
Si
P
others
Fe 0%
照射 照射後 焼鈍
再照射
70%
80%
90%
100%
I IA IAI
Cu
Mn
Ni
Si
P
others
Fe 0%
照射 照射後 焼鈍
再照射
Erosion法を用いた溶質原子クラスターの濃度解析
70%
80%
90%
100%
I IA IAI
Cu
Mn
Ni
Si
P
others
Fe 0%
照射 照射後 焼鈍
再照射
溶質原子クラスター全体 Cu原子200個以下の 溶質原子クラスターのみ
Cu原子200個以上の 溶質原子クラスターのみ